中芯國際只論性能,把14納米芯片做大,性能是否達到7納米水平?

中芯國際只論性能,把14納米芯片做大,性能是否達到7納米水平?越來越低nm工藝制程成為了芯片設計上的追求,也是各芯片制造商不得不緊跟設計者的需要。

為何現在芯片設計廠商要追求越來越低的工藝制程,其主要目的是為了在同一大小塊芯片上容納更多的晶體管,增強芯片的性能。同時晶體管之間的間距減少,電容降低,開關頻率提升,速度更快更加省電。理論上把14nm芯片做到7nm芯片的性能是有可能的,但是要容納與7nm相同或者更多數量的晶體管,14nm芯片面積將會變得更大,而且能耗將會很高,在產品上將變得不實用。

比如行動電話芯片,在巴掌大的行動電話上如果芯片就占了半巴掌大,顯然是不實用的。所以各大芯片設計廠商拼命設計更多晶體管的芯片,制造廠商也拼了命的提升自己的工藝制程滿足芯片設計者需求。所以像臺積電、三星等,都在競爭生產及解決7nm、5nm,甚至3nm制程工藝,以求在未來占據主動。而中芯國際與他們相差不小的距離,到2019年低才開始量產14nm芯片。

這源于中芯國際的設備沒有辦法達到如此高的要求,同時其生產工藝及技術沒有辦法實踐。早在兩年前就花1.3億美元的高價向荷蘭ASML訂購了一臺7nm工藝制程的光刻機,可惜的是一直遭到美國的阻攔與騷擾,ASML也不得不通過各種搪塞未能交付這一套高端光刻機的理由。

不過好在中芯國際已經能夠量產14nm芯片,并且已經和華為有了芯片制造業務,可以說大陸除了極少部分需求之外,比如華為7nm行動電話芯片和紫光展銳6nm行動電話芯片,14nm工藝芯片已經能夠滿足了絕大部分需求。

目前中芯國際正在像7nm工藝制程進發,他們正在研發N+1、N+2工藝水準,將會與臺積電7nm芯片工藝水準對齊。即使沒有高端EUV光刻機設備同樣可以制造7nm芯片,只是不能制造7nm EUV工藝芯片。中芯國際的未來可期。

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10 条回复 A文章作者 M管理員
  1. 性能和功耗是一對矛盾體,14納米的芯片確實是可以來干7nm芯片的活,但是功耗會高很多

  2. 7nm芯片做不出來,就想辦法提高電池性能

  3. 芯片跟屏幕耗電量大。 // @農村人上班簡稱農民工: 14nm工藝目前夠用了,芯片大點沒有關系,只要性能跟上就行,我們可以把行動電話屏幕做大點,原來是6吋的屏現在做成7吋的,就可以多出來空間來放芯片和電池,目前的問題不就可以解決了嗎,我們再抓緊時間研發,過不了5年我們就可以掌握更先的技術了。

  4. 不用焦慮,行動電話芯片發展也快到瓶頸了,越來越像pc了,可以降低主頻搞多核,功耗不變,性能一樣可以提高,雖然面積會大點,但是芯片工藝不需要改

  5. 國門封閉的話,14納米也夠用了,軍功醫藥一直在用比較老舊也更加穩定的芯片

  6. 沒有先進的光刻機怎么制造7nm工藝芯片?不明白

  7. 英特爾現在就是14nm,你覺得中芯能達到英特爾水平嗎?而且英特爾的14nm目前看也沒能超過臺積電的7nm,所以你覺得這個可能有多少[捂臉]

  8. 其實我們也不是手里沒有牌了。停售稀土,清空美債,向伊朗出售核子彈技術。地球就這么大,如果不想過了就都滅亡吧。

  9. 如果我們用三年的十四納米芯片,然后三年不出口稀土。美國和大陸誰能堅持住。

  10. 14nm工藝目前夠用了,芯片大點沒有關系,只要性能跟上就行,我們可以把行動電話屏幕做大點,原來是6吋的屏現在做成7吋的,就可以多出來空間來放芯片和電池,目前的問題不就可以解決了嗎,我們再抓緊時間研發,過不了5年我們就可以掌握更先的技術了。