有消息稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，大陸芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥(ASML)就EUV光刻設備進行談判，
報道稱，中芯國際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮，
對于中芯國際引入EUV （極紫外光源）光刻機事情，目前上市不被允許的，而ASML之前已經證實。
ASML CFO Roger Dassen表示，如果廣泛的來理解其規章制度對ASML的總體含義(對于特定的大陸客戶)，則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些大陸客戶提供DUV光刻系統，且無需出口許可證，但是EUV （極紫外光源）光刻機是沒有機會的，
2018年4月，中芯國際向ASML訂購了一臺 EUV 光刻機，價值1.2億美元（約合人民幣8億元），預計2019年年初交貨。后來此事被報道后，ASML回應稱，對包括大陸客戶在內的全球客戶都一視同仁，且向大陸出售EUV光刻機并沒有違反《瓦森納協定》。當時，荷蘭政府的確向 ASML 發放了出口許可證。
不過，最終這個交易也沒有形成，此后，關于 EUV 光刻機向大陸出口，ASML 的官方說法一直是：公司仍在等待新許可證申請的批準，
目前的光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV光刻機，分為干分式與液浸式兩種，其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長雖然有193nm，但等效為134nm，經過多重曝光后，液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。
EUV光刻機采用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片制程節點必不可少的工具，也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有ASML的EUV光刻機，芯片巨頭臺積電、三星、Intel的5nm產線就無法投產。
