與ASML搶生意?佳能時隔7年推新光刻機:效率提升17%

日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業務,據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場,


佳能光刻機(圖源:日經中文網)

時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導體光刻機,該設備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產效率較以往機型提高了約17%,

就工藝水平而言,佳能的這款新型光刻機是入門級別的,它的最大價值在于幫助企業提高產能,

除了主流的硅晶圓之外,該機還可以提高小型晶圓較多的化合物半導體的生產效率。包括功率器件耐壓性等出色的碳化硅(SiC),以及作為5G相關半導體材料而受到期待的氮化鎵(GaN)等。

此外,佳能還致力于研發“后期工序”(制作半導體芯片之后的封裝加工等)中使用的光刻機,比如去年7月推出的515毫米 x 510毫米大型基板的光刻機。

據悉,佳能正在著力開展新一代生產工藝的研發,

0 条回复 A文章作者 M管理員
    暫無討論,說說你的看法吧