答案是有的
芯片加工其實是一個系統工程，其中光刻機的研制主要由各子系統及主系統集成幾個方面組成，大陸在2002年推出的“十五”規劃中《國家科技16個重大專項》的（02專項）就是針對光刻機設備的研發。并且為此專門組建了上海微電子裝備有限公司(SMEE)作為研發主力，并且把中電科45所有關光科技研發的技術團隊轉移到了上海。
同時各主要的子系統部分也分別委托大陸相關領域的頂尖科研團隊參與集體研發。
極紫外光刻機（EUV）的研制主力研發單位是大陸科學院長春光學精密機械與物理研究所（簡稱長春光機所）
光源部分：由哈爾濱工業大學部方面負責，最近消息DPP-EUV光源已經到了接近12* W的水平。
物鏡部分：北京某單位已經研發成功對應的大口徑光學鏡面超精密加工機床，相關樣機已經研制完成。
目前極紫外光刻機（EUV）樣機已經完成并通過了國家驗收，預計兩年內正式量產的樣機即將問世。
（畢竟長春光機所很早就是大陸專業研究光刻機的科研單位，而且也是軍用衛星鏡頭的主要研究單位，光學實力還是有的，同時據說長春光機主導研發的軍用光刻機已經達到了28MN的加工精度，光機所控股的奧普光電就是以軍用芯片生產為主的企業，只不過軍用光刻機因為成本問題無法在民用領域進行推廣）
深紫外浸入式光刻機（DUV）由上海微電子負責總體研發，
其中超精密光柵系統來自大陸科學院上海光學精密機械研究所（中科院下屬專門從事激光專業的研究所，簡稱上光所）
光刻機物鏡組來自北京國望光學。（主要科研團隊來自于長春光機所旗下的長春國科精密光學技術有限公司，是大陸唯一一家超精密光學系統產業化技術研發單位，并且已經與長春光機所和上海光機所達成了戰略投資。）
光源來自科益虹源。（是由亦莊國投、大陸科學院光電院及微電子所、國科控股等共同出資設立，是具備專業高端準分子激光技術研究和產品化能力的企業）
浸液系統來自浙江啟爾機電。（公司前身是浙江大學部流體動力與機電系統國家重點實驗室啟爾團隊，團隊先后承擔國家863計劃和國家02科技重大專項等科研項目30余項。公司專注于光刻機浸沒系統及其衍生產品的研發，在流體精密測控、（泛）半導體制造以及超純工藝等方面擁有豐富的技術經驗）。
雙工件臺來自華卓精科。（由清華IC裝備團隊在清華大學部及其下屬“北京-清華工業技術研究院”和02專項的支持下創立，是一家肩負著專項重大科研成果產業化重任的高新技術企業。華卓精科主要從事半導體制造裝備及其關鍵零部件研發、設計、生產、銷售與技術服務。）
上海微電子將于今年（2020年）12月下線首臺采用ArF光源的可生產11納米的SSA800/10W光刻機(單次曝光28nm節點浸沒光刻機)，采用NA1.35透鏡組，并搭載超精密磁懸浮雙工件臺和超純水浸入系統。同時采用華卓精科工作臺的套刻精度指標優于1.7納米。該光刻機有生產7nm制程的潛力（多次曝光）。
可以看出，上面所列的科研機構和企業基本大都是基于02專項發展而來，可以說是集聚了大陸各行業的頂尖科研實力，國家在很多年前就已經開始發力攻克光刻機的難關，相信在不遠的未來大陸光刻機一定能夠成為大陸的芯片行業的有力支撐。
芯片、計算機、軟體需要解決的問題多，需要國家力量來統籌公關，體制和管理很重要。
只要被制裁了，就不要考慮成本的問題，一定要搞出來。
補短板，大聯合，集中攻關，不惜一切代價拿下光刻機。\n此消息振奮人心！
光刻機不是屬于高科技的范圍疇，因為它沒有人們不明白的原理，純粹是工藝的積累。就像一部挖掘機，如何把它精準操作完全是操作工人的周密記憶所能發揮的程度決定的。
把控質量，加快進度。補齊短板，打破封鎖。功在當代，振奮人心。
由于以前是世界各行各業都是分工合作的一種發展理念，因而各國在自己的弱項上也就不會下大本錢去研制，就是造不如買的理念，這種現象可能是我們沒有下大力氣去研究的結果吧？估計肯定會制造出來，不過精度上使用性能上達到最佳效果還是會需要一段時間的改進磨合吧？有了就等于擁有了希望的開始！
極紫外有國家隊光機所，深紫外有上微電，所有力量形成合圍之勢，在不太長的將來，獲得突破，可以期待。\n川建國給我們的是陣痛，假以時日，我們給美國敲響的是喪鐘！
如果是真的，只要再過幾年對國外的依賴也許就不會像現在這么大了
如果國家重視，早幾年前就搞出來了。上微才花了6億多，清華團隊才200多人。
上海微電子用了美國的技術，也不敢給華為供貨，不能算真正的大陸