在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
韓國媒體報道，近年來韓國企業及科研機構在EUV光刻工藝大舉投入，專利技術上正在跟國外公司縮短差距。
據報道，在2011到2020年的專利申請中，向韓國知識產權局(KIPO)提交的與EUV光刻相關的專利申請數量達到88件的峰值，2018年達到55件，2019年達到50件，
其中2019年中韓國本土公司提出的EUV專利申請為40件，超過了國外10件，這也是韓國提交的EUV專利首次超過國外公司，
在2020年中，韓國公司提交的EUV專利申請達到了國外的2倍多，其中三星公司是最多的，該公司今年已經開始使用5nm EUV工藝生產行動電話處理器。
從全球來看，TOP6的廠商申請的EUV專利占了全部的59%，其中卡爾蔡司占比18%（畢竟光學物鏡是EUV核心），位列第一，三星緊隨其后，專利申請占比18%，ASML公司占比11%，位列第三，
再往下，韓國S&S Tech占了85，臺積電占了6%，SK海力士占了1%。
從具體技術項目看，工藝技術申請專利占32%，曝光裝置技術申請專利占31%，掩膜技術申請專利占28%，其他申請專利占9%。
在工藝技術領域，三星電子占39%，臺積電占15%，
在光罩領域，韓國S&S科技占28%，日本Hoya占15%，韓國漢陽大學部占10%，日本朝日玻璃占10%，三星電子占9%，
