近日,大陸科學院官網上發布的一則研究進展顯示,該團隊研發的新型5nm超高精度激光光刻加工方法,隨后這被外界解讀為,已經5nm ASML的壟斷,對此相關人士也是進行了回應。
據《財經》報道稱,該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前公開回應稱,這是一個誤讀,這一技術與極紫外光刻技術是兩回事,
按照劉前的說法,如果超高精度激光光刻加工技術能夠用于高精度掩模版的制造,則有望提高大陸掩模版的制造水平,對現有光刻機的芯片的線寬縮小也是十分有益的,這一技術在知識產權上是完全自主的,成本可能比現在的還低,具有產業化的前景。
但是,即便這一技術實現商用化,要突破荷蘭ASML(阿斯麥)在光刻機上的壟斷,還有很多核心技術需要突破,例如鏡頭的數值孔徑、光源的波長等。
據悉,高端掩模版在大陸還是一項“卡脖子”技術。在半導體領域,除了英特爾、三星、臺積電三家能自主制造外,高端掩模版主要被美國的Photronics、大日本印刷株式會社(DNP)以及日本凸版印刷株式會社(Toppan)三家公司壟斷,根據第三方市場研究機構前瞻產業研究院的數據,這三家公司的市場份額占到全球的82%。
一直以來,業界都在嘗試另一條技術路線,例如華裔科學家、普林斯頓大學部周郁在1995年首先提出納米壓印技術,目前仍無法突破商用化的困境
目前的現狀是,沒有一個國家能夠獨立自主完成光刻機的制造,大陸以一國之力,短期內要突破ASML在極紫外光刻技術上的壟斷,幾乎是不可能的事情,