7nm卡脖子技術又一突破 開始生產了

7月2日消息,大陸半導體材料廠商南大光電在互動平臺上表示,公司旗下的ArF光刻膠產品拿到小批量訂單,不過他們沒有透露具體的客戶名單,

今年5月份,南大光電發表公告,控股子公司寧波南大光電自主研發的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業的50nm閃存平臺上通過認證后,近日又在邏輯芯片制造企業55nm技術節點的產品上取得了認證突破,表明公司光刻膠產品已具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求。

在光刻工藝中,光刻膠被均勻涂布在襯底上,經過曝光(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝,將掩膜版上的圖形轉移到襯底上,形成與掩膜版完全對應的幾何圖形,

半導體市場上主要使用的光刻膠包括g線、i線、KrF、ArF四類光刻膠,其中,g線和i線光刻膠是市場上使用量最大的,KrF和ArF光刻膠核心技術基本被日本和美國企業所壟斷,

此前南大光電曾在公告中表示,ArF光刻膠涵蓋的工藝技術很廣,可用于90nm-14nm甚至7nm 技術節點制造工藝,廣泛應用于高端芯片制造(如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等),

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